Технология появится через 10 лет: российские ученые форсируют проект создания машины-литографа для выпуска современной электроники

Вернувшиеся в Россию микроэлектронщики обещают разработать технологию мирового уровня

Российский литограф для печати кристаллов (чипов) для микроэлектроники, не хуже того, что был создан голландской компанией ASML, готовы создать российские ученые.

тестовый баннер под заглавное изображение

Новый фотолитограф – аппарат, с помощью которого на кремниевую подложку переносятся микроскопические рисунки элементов транзисторов – будет отличаться от традиционного применяемой в нем длиной световой волны. Если литографы предыдущего поколения работают  со светом лазера с длиной волны 350 нанометров (нм) и 192 нм, то технология EUV (Extreme ultraviolet lithography – Технология глубокого ультрафиолета) позволит создавать оборудование, способное работать на длине волны в 13,5 нанометров (это приравнивается к рентгеновскому излучению) и меньше.

В частности такой литограф был несколько лет назад создан в Нидерландах компанией ASML, а в декабре 2025 года агентство Reuters сообщило, что Китай разработал собственный прототип EUV-системы силами бывших инженеров ASML.

Российские микроэлектронщики тоже обладают знаниями о том, как можно создать рентгеновские литографы для печати более современных микросхем. О проекте, который разворачивается сейчас в НИИ физики микроструктур РАН сообщил в интервью «МК» академик РАН Евгений Горнев.

По его словам, для создания микросхем мирового уровня понадобится развернуть производство множества типов машин. Российские ученые обладают многими компетенциями для их создания. В частности, для разработки одного из важнейших типов таких машин – фотолитографа, у специалистов НИИ физики микроструктур РАН из Нижнего Новгорода есть богатый опыт создания  EUV-системы в компании ASML.

«Эти люди сейчас в России и заняты разработкой не точь в точь, но по классу очень похожих машин, – говорит Евгений Горнев. – 13 лет назад НИИМЭ был идеологом создания на нижегородской земле отечественного рентгеновского литографа. Если все получится, лет через 10 (не 30, как это было у ASML) у нас может появиться своя прогрессивная рабочая технология. Причем, наши специалисты предполагают, что их машина будет работать на меньшей длине волны –  11,2 нанометров».

Как сообщили сами разработчики, российский EUV-литограф может быть создан на более простом, чем у ASML источнике излучения – ксеноне (у ASML – олово). Ученые также обещают, что помимо меньшей длины волны, которая положительно влияет на разрешение, он будет меньше загрязнять поверхность механизма и меньше потреблять энергии. В целом, с учетом всех составляющих, он будет не таким дорогим в производстве, как у нидерландской компании.

Источник: www.mk.ru